三星和LG將用ALD技術產柔性屏 延長使用壽命
[熱點] 時間:2025-11-23 14:54:22 來源:桑間濮上網 作者:時尚 點擊:116次
三星顯示器公司與LG Display準備在柔性OLED薄膜封裝過程中采用ALD(原子層沉積)技術,星和兩家公司已經與合作伙伴合作,將用D技在內部采購并驗證ALD設備。術產重慶外圍(外圍模特)外圍女(電話微信181-2989-2716)提供高端外圍上門真實靠譜快速安排不收定金見人滿意付30分鐘內到達如果采用ALD技術,柔性就可以更好保護有機材料,屏延減少氧、長使水的用壽影響,從而提高柔性OLED面板的星和壽命和性能。
據產業(yè)人士透露,將用D技三星顯示器和LG Display正準備在柔性OLED生產流程中采用ALD技術。術產重慶外圍(外圍模特)外圍女(電話微信181-2989-2716)提供高端外圍上門真實靠譜快速安排不收定金見人滿意付30分鐘內到達Jusung Engineering、柔性WONIK IPS、屏延AP System和TES擁有ALD技術和設備。長使LG Display已經完成對ALD的用壽研究,準備將它用于柔性OLED生產;三星顯示器也在加速部署ALD技術。星和
兩家公司完成了ALD技術的研發(fā),它們正在考慮實際引入ALD的可能性,因為它們正在向柔性OLED生產設施投資。企業(yè)的研發(fā)已經完成,開始進入商用階段。
OLED是有機材料,它存在缺陷,比如,OLED對水和氧的防護比較弱。為了保護OLED,制造商會在OLED之上鋪上許多層的薄膜,減少水和氧的侵蝕。具體鋪多少層?不同的制造商有不同的標準,一般而言,制造企業(yè)會用一種名叫“Vitex”的方法在OLED之上鋪蓋有機薄膜和無機薄膜,交疊進行,各自3-5層。。
在無機薄膜封裝過程中,企業(yè)一般使用PECVD(等離子體增強化學汽相沉積)、濺射、ALD技術;如果是有機薄膜沉淀,使用的是Kateeva的噴墨打印技術。為了生成無機薄膜,三星和LG采用PECVD技術。
為什么兩家企業(yè)現在才考慮用ALD技術替代PECVD?因為壽命和性能對于柔性OLED來說越來越重要。另外,柔性OLED屏幕的生產力下降,需求增長也是一個問題。
ALD技術是CVD(化學蒸汽沉積)技術的一種,它交替噴射原材料(包括ALD金屬和反應氣體)從而形成原子薄膜層。MLD技術(分子層沉積)可以形成有機材料分子層,兩者結合就可以形成多層屏障,保護OLED,使之免受水和氧的侵蝕,即使在低溫下也可以形成。
在屏幕生產過程中引進ALD技術有一些優(yōu)勢,例如,它可以減少雜質,形成厚度相同的薄膜。ALD技術可以涂上高質量薄膜層,保護效果明顯增強。如果無機薄膜的厚度不同(只有幾納米的差別),層層疊加,總薄膜厚度、滲水率就會受到影響。除此之外,與現有的CVD方法相比,ALD技術還可以采用各種不同的薄膜,這也是它的一個優(yōu)勢。
半導體產業(yè)追求精細工藝,ALD成為它們追捧的對象。不過顯示屏產業(yè)一直對ALD保持猶豫態(tài)度,因為它的成本比PECVD高,大面積使用也存在一定的問題,沉積速度不夠快。最近一段時間問題已經部分解決,正因如此ALD才會真正投入使用。
一名產業(yè)代表稱:“雖然ALD和PECVD不可同日而語,但是ALD的沉積速度比PECVD慢了大約10倍。因為沉積速度慢,生產效率也很低,大面積應用有困難,這些都是主要的障礙,之所以真正引進ALD技術,主是是考慮到它可以形成更薄的高質量薄膜。”
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兩家公司完成了ALD技術的研發(fā),它們正在考慮實際引入ALD的可能性,因為它們正在向柔性OLED生產設施投資。企業(yè)的研發(fā)已經完成,開始進入商用階段。
OLED是有機材料,它存在缺陷,比如,OLED對水和氧的防護比較弱。為了保護OLED,制造商會在OLED之上鋪上許多層的薄膜,減少水和氧的侵蝕。具體鋪多少層?不同的制造商有不同的標準,一般而言,制造企業(yè)會用一種名叫“Vitex”的方法在OLED之上鋪蓋有機薄膜和無機薄膜,交疊進行,各自3-5層。。
在無機薄膜封裝過程中,企業(yè)一般使用PECVD(等離子體增強化學汽相沉積)、濺射、ALD技術;如果是有機薄膜沉淀,使用的是Kateeva的噴墨打印技術。為了生成無機薄膜,三星和LG采用PECVD技術。
為什么兩家企業(yè)現在才考慮用ALD技術替代PECVD?因為壽命和性能對于柔性OLED來說越來越重要。另外,柔性OLED屏幕的生產力下降,需求增長也是一個問題。
ALD技術是CVD(化學蒸汽沉積)技術的一種,它交替噴射原材料(包括ALD金屬和反應氣體)從而形成原子薄膜層。MLD技術(分子層沉積)可以形成有機材料分子層,兩者結合就可以形成多層屏障,保護OLED,使之免受水和氧的侵蝕,即使在低溫下也可以形成。
在屏幕生產過程中引進ALD技術有一些優(yōu)勢,例如,它可以減少雜質,形成厚度相同的薄膜。ALD技術可以涂上高質量薄膜層,保護效果明顯增強。如果無機薄膜的厚度不同(只有幾納米的差別),層層疊加,總薄膜厚度、滲水率就會受到影響。除此之外,與現有的CVD方法相比,ALD技術還可以采用各種不同的薄膜,這也是它的一個優(yōu)勢。
半導體產業(yè)追求精細工藝,ALD成為它們追捧的對象。不過顯示屏產業(yè)一直對ALD保持猶豫態(tài)度,因為它的成本比PECVD高,大面積使用也存在一定的問題,沉積速度不夠快。最近一段時間問題已經部分解決,正因如此ALD才會真正投入使用。
一名產業(yè)代表稱:“雖然ALD和PECVD不可同日而語,但是ALD的沉積速度比PECVD慢了大約10倍。因為沉積速度慢,生產效率也很低,大面積應用有困難,這些都是主要的障礙,之所以真正引進ALD技術,主是是考慮到它可以形成更薄的高質量薄膜。”
(責任編輯:探索)
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